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Sonntag, 15. November 2009 um 19:07 Uhr |
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Dresden (dpa/sn) - In Sachsen lebende und arbeitende bildende Künstler können sich um einen dreimonatigen Studienaufenthalt 2010 in der US-amerikanischen Stadt Columbus (Ohio) bewerben. Dafür werden im Rahmen eines 1995 begründeten Künstleraustauschprogramms zwei Stipendien vergeben, teilte das Kunstministerium am Sonntag in Dresden mit. Angesprochen seien Künstler mit Schaffensmittelpunkt oder Wohnsitz im Freistaat, die überwiegend freiberuflich arbeiten und weder an einer Hochschule immatrikuliert sind noch sich in einer Ausbildung befinden. Der Bewerbungsschluss ist der 8. Februar.
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